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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • XMD2000微孔型水性墨水高剪切分散機

    微孔型水性墨水高剪切分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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    2025-09-06

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  • XRS2000復(fù)合催化劑高剪切分散機

    復(fù)合催化劑高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XRS2000氧化鈦分散液納米高速分散機

    氧化鈦分散液納米高速分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000甲醛樹脂氣凝膠高剪切分散機

    甲醛樹脂氣凝膠高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000納米材料高剪切研磨分散機

    納米材料高剪切研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000鋰電池負極漿料研磨分散機

    鋰電池負極漿料研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000粉底高剪切超高速研磨分散機

    粉底高剪切超高速研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000水性聚氨酯分散機

    水性聚氨酯分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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